Vorteile:
Diese Pumpenserie bietet eine gute Leistung unter rauen Umgebungsbedingungen (hohe Temperaturen, Staub usw.), eine stabile Leistung und eine lange Lebensdauer sowie eine einfache Wartung und eine bequeme Bedienung.
Anwendungen:
Hauptanwendungen sind in der industriellen Lecksuche, PVD, CVD, Ionenimplantation, Herstellung elektronischer Vakuumkomponenten, Low-E-Glas, ITO-Glas, optische Beschichtung, Solarzellen, Elektronenstrahlschweißen, Vakuumöfen und anderen Industrien
Spezifikationen:
Flansch(In) | DN400 ISO-K | Gas im gesamten (sccm) | N2:5500 |
Flansch(Out KF | DN100 | Er: 4000 | |
Pumpgeschwindigkeit (L/s) | N2:3500 | H2:3200 | |
Er: 2650 | Ar: 2100 | ||
H2: 1280 | Drehzahl ( U/min) | 13500 | |
Ar: 3200 | Vorlaufzeit(min) | 18 | |
Kompressionsrate | N2:108 | Kühlart,Standard | Wasser |
Er: 103 | Kühlwasserverbrauch ( L/min) | ≥1 | |
H2:102 | Kühlwassertemperatur(℃) | 25 | |
Ar: 108 | Stromanschluss: Spannung (V AC) | DC24/AC220 | |
Enddruck(Pa) | 6×10-6 | Max.Leistungsaufnahme (W) | 1100 |
max. Kontinuierlicher Vorvakuumdruck (Pa) | 100 | Controller-Modell | FD-III |
max. Vorvakuumdruck | N2: 300 | Gewicht (kg) | 130 |